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CMP拋光液
- 分類:公司新聞
- 作者:
- 來源:
- 發布時間:2020-06-03
- 訪問量:0
【概要描述】CMP拋光液是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。
CMP拋光液
【概要描述】CMP拋光液是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。
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CMP拋光液是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。
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